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    产品详细页
    FIB双束电镜

    FIB双束电镜

    • 访问量:3019
    • 更新日期:2023-03-20
    • 产品介绍:新一代的赛默飞世尔科技 Helios 5 DualBeam FIB双束电镜经过精心设计,可满足材料科学研究人员和工程师对广泛的 FIB-SEM 使用需求,即使是有挑战性的样品。
    • 厂商性质:代理商

    产品介绍

    品牌FEI/赛默飞

    新一代的赛默飞世尔科技 Helios 5 DualBeam FIB双束电镜具有 Helios 5 产品系列高性能成像和分析性能。它经过精心设计,可满足材料科学研究人员和工程师对广泛的 FIB-SEM 使用需求,即使是具有挑战性的样品。


    Helios 5 DualBeam FIB双束电镜重新定义了高分辨率成像的标准:较高的材料对比度,快、简单、准确的高质量样品制备,用于 S/TEM 成像和原子探针断层扫描(APT)以及高质量的亚表面和 3D 表征。在 Helios DualBeam 系列久经考验的性能基础上,新一代的 Helios 5 DualBeam 进行了改进优化,所有这些都旨在确保系统处于手动或自动工作流程的运行状态。


    更易于使用:

    Helios 5 是所有体验级别用户容易使用的 DualBeam。操作员培训可以从几个月缩短到几天,系统设计可帮助所有操作员在各种高级应用程序上实现一致、可重复的结果。


    提高了生产率:

    Helios 5 和 AutoTEM 5 软件的先进自动化功能,增强的稳健性和稳定性允许无人值守甚至夜间操作,显着提高样品制备通量。


    改善时间和结果:
    Helios 5 DualBeam 现在包括 FLASH,这是一种调整图像的新概念。对于传统的显微镜,每次操作员需要获取图像时,必须通过迭代对中仔细调整显微镜。使用 Helios 5 DualBeam,屏幕上的简单手势将激活 FLASH,将自动调整这些参数。自动调整可以显着提高通量、数据质量并简化高质量图像的采集。


    半导体行业技术参数:



    Helios 5 CX

    Helios 5 HP

    Helios 5 UX

    Helios 5 HX

    Helios 5 FX


    样品制备与XHR扫描电镜成像

    终样品制备(TEM薄片,APT)

    STEM亚纳米成像与样品制备

    SEM

    着陆电压

    20ev-30kev

    20ev-30kev

    分辨率

    0.6nm@15kev

    1.0nm@1kev

    0.6nm@2kev

    0.7nm@1kev

    1.0nm@500ev

    STEM

    分辨率@30kev

    0.7nm

    0.6nm

    0.3nm

    FIB制备过程

    大材料去除束流

    65nA

    100nA

    65nA

    终优抛光电压

    2kv

    500v

    TEM样品制备

    样品厚度

    50nm

    15nm

    7nm

    自动化

    样品处理

    行程

    110×110×65mm

    110×110×65mm

    150×150×10mm

    100×100×20mm

    100×100×20mm+5轴(S)TEMCompustage

    负载锁

    手动

    自动

    手动

    自动

    自动+自动插入/提取STEM杆


    材料科学行业技术参数:

     

     

    Helios 5 CX

    Helios 5 UX

    离子光学

     

    具有优越的高电流性能的Tomahawk HT 离子镜筒

    具有优越的大电流和低电压性能的Phoenix离子镜筒

    离子束电流范围

    1 pA – 100 nA

    1 pA – 65 nA

    加速电圧

    500 V – 30 kV

    500 V – 30 kV

    大水平视场宽度

    在光束重合点时为0.9 mm

    在光束重合点时为0.7 mm

    离子源寿命

    1,000 hours

    1,000 hours

     

    两级差动泵

    两级差动泵

    飞行时间矫正

    飞行时间矫正

    15孔光阑

    15孔光阑

    电子光学

    Elstar超高分辨率场发射镜筒

    Elstar超高分辨率场发射镜筒

    磁浸没物镜

    磁浸没物镜

    高稳定性肖特基场发射枪提供稳定的高分辨率分析电流

    高稳定性肖特基场发射枪提供稳定的高分辨率分析电流

    电子束分辨率

    工作距离下

    0.6 nm at 30 kV STEM

    0.6 nm at 30 kV STEM

    0.6 nm at 15 kV

    0.7 nm at 1 kV

    1.0 nm at 1 kV

    1.0 nm at 500 V (ICD)

    0.9 nm at 1 kV 减速模式*

     

    在束流重合点

    0.6 nm at 15 kV

    0.6 nm at 15 kV

    1.5 nm at 1 kV 减速模式* and DBS*

    1.2 nm at 1 kV

    电子束参数

    电子束流范围

    0.8 pA to 176 nA

    0.8 pA to 100 nA

    加速电压范围

    200 V – 30 kV

    350 V – 30 kV

    着陆电压

    20 eV – 30 keV

    20 eV – 30 keV

    大水平视场宽度

    2.3 mm at 4 mm WD

    2.3 mm at 4 mm WD

    探测器

    Elstar 镜筒内 SE/BSE 探测器 (TLD-SE, TLD-BSE)

    Elstar i镜筒内SE/BSE 探测器 (ICD)*

    Elstar 镜筒内 BSE 探测器 (MD)*

    样品室内Everhart-Thornley SE 探测器 (ETD)

    红外相机

    高性能离子转换和电子探测器(SE)*

    样品室内样品导航彩色光学相机Nav-Cam Camera*

    可伸缩式低电压、高衬度、分割式固态背散射探测器(DBS)*

    可伸缩STEM 3+ 探测器*

    电子束流测量

    样品台和样品

    样品台

    灵活五轴电动

    压电驱动XYR轴的高精度五轴电动工作台

    XY

    110 mm

    150 mm

    Z

    65 mm

    10 mm

    R

    360° (连续)

    360° (连续)

    倾斜

    -15° to +90°

    -10° to +60°

    大样品高度

    与优中心点间隔85mm

    与优中心点间隔55mm

    大样品质量

    样品台任意位置500 g

    样品台任意位置500 g

    0° 倾斜时大5kg

    大样品尺寸

    直径110 mm可沿样品台旋转时

    直径150 mm可沿样品台旋转时

     

    优中心旋转和倾斜

    优中心旋转和倾斜




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